您现在的位置是:娱乐 >>正文
重大突破!芯片光刻胶关键技术被攻克:原材料全部国产 配方全自主设计
娱乐9771人已围观
简介快科技10月25日消息,据华中科技大学官微消息,近日,该校武汉光电国家研究中心团队,在国内率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方,助推我国芯片制造关键原材料突破瓶颈。据介绍,其研发的T150A光刻胶系列产 ...
快科技10月25日消息,重大自主据华中科技大学官微消息,突破近日,芯片该校武汉光电国家研究中心团队,光刻攻克在国内率先攻克合成光刻胶所需的胶关键技原料和配方,助推我国芯片制造关键原材料突破瓶颈。术被设计
据介绍,原材其研发的料全T150A光刻胶系列产品,已通过半导体工艺量产验证,部国实现了原材料全部国产,产配配方全自主设计,重大自主有望开创国内半导体光刻制造新局面。突破
公开资料显示,芯片光刻胶是光刻攻克一种感光材料,用于芯片制造的胶关键技光刻环节,工作原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制造时,会在晶圆上涂上光刻胶,在掩膜版上绘制好电路图。
当光线透过掩膜版照射到光刻胶上会发生曝光,经过一系列处理后,晶圆上就会得到所需的电路图。
由于光刻胶是芯片制造的关键材料,国外企业对其原料和配方高度保密,目前我国所使用的光刻胶九成以上依赖进口。
武汉光电国家研究中心团队研发的这款半导体专用光刻胶对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。
相较于国外同系列某产品,T150A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm,且工艺宽容度更大、稳定性更高、留膜率更优,其对刻蚀工艺表现更好,通过验证发现T150A中密集图形经过刻蚀,下层介质的侧壁垂直度表现优异。
团队负责人表示:“以光刻技术的分子基础研究和原材料的开发为起点,最终获得具有自主知识产权的配方技术,这只是个开始。我们团队还会发展一系列应用于不同场景下的KrF与ArF光刻胶,致力于突破国外卡脖子关键技术,为国内相关产业带来更多惊喜。”
Tags:
相关文章
中国10月销量最高车型出炉:比亚迪霸占前4 小米SU7排第25名
娱乐快科技11月11日消息,根据乘联会的数据,10月份全国乘用车厂商的批发量达到了273.2万辆,同比增长11.5%,环比增长9.1%,创下了历年各月的最高纪录。在新能源汽车领域,10月的批发销量达到了1 ...
【娱乐】
阅读更多第二季度全球智能手机出货量:华为逼近苹果 小米重返前五
娱乐IDC昨日发布了最新的调研报告,报告显示,2017年第二季度全球智能手机出货量为3.416亿部,同比下滑1.3%,环比下滑0.8%。▲IDC调研报告数据根据IT之家此前的报道,市场调研机构Strate ...
【娱乐】
阅读更多腾讯微黄金实物兑换方法 腾讯微黄金公众号兑换途径
娱乐腾讯微黄金开启了实物兑换功能,小伙伴们可以进行实物兑换,因此不少小伙伴们想知道怎么进行兑换的,就让小编给大家详细的讲讲,想知道的就一起来看看吧。腾讯微黄金实物兑换方法介绍今天,腾讯微黄金“ ...
【娱乐】
阅读更多